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ABB OA-ICOS? GLA231

ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜（OAICOS）技術，能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體，適用于半導體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監測及FOUP監測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優化的數據處理···...

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詳情介紹

ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜（OAICOS）技術，能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體，適用于半導體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監測及FOUP監測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優化的數據處理使其具備高性能和高安全性，支持Modbus TCP輸出和遠程控制功能，操作簡便，維護需求低。

ABB OA-ICOS GLA231在線ICOS方法酸堿分析儀（離軸激光）

功能和優勢

? 支持 HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置

? 提供高精度、準確的 H2O 測量結果

? 提供 0-5V 和 4-20 mA 模擬輸出（標配），可選Modbus TCP

? 優化數據處理，在測量亞 ppb 級別濃度時，實現優異性能

? 提供觸控數字顯示屏，顯示氣體濃度和分析儀的狀態

? 提供主要密碼保護，確保分析儀和數據安全

? 優化的零氣性能，確保可靠地確認過程事件

? 提供可定制的校準套件和性能認證文件包

? 堅固耐用；所需的維護工作少且花費較低

? 可輕松更換長期受到污染的部件（過濾器）和正常老化部件（泵隔膜）

? 服務工程師可現場診斷并更換其他大多數部件

? 鏡面清潔可現場進行，無需在工廠費時維修

技術參數

GLA231-EAA

項目（氣體）	NH?	H?O
精度 (1σ)	<1ppb (1秒) <0.3 ppb (10秒) <0.1 ppb (100秒)	<50 ppm (1秒) <20 ppm (10秒) <10 ppm (100秒)
檢測限 (LOD)	0.3 ppb (100秒)	50 ppm (100秒)
準確性 *	±0.3 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	>7,000 ppm = 1% FSD
不同分析儀的結果差異（相對于平均值，10秒）	±0.4 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	≤1000 ppm = ±10%
線性測量范圍	高達 10,000 ppb	高達 30,000 ppm
樣品流量 (ppm)	1.4-2.4
響應時間 (T??, T??)	10秒

GLA231-HFHC & HF

項目（氣體）	HCl**	HF	H?O
精度 (1σ)	<0.3 ppb (1秒) <0.1 ppb (10秒) <0.035 ppb (100秒)	<0.1 ppb (1秒) <0.05 ppb (10秒) <0.025 ppb (100秒)	<25 ppm (1秒) <10 ppm (10秒) <5 ppm (100秒)
檢測限 (LOD)	0.1 ppb (100秒)	0.075 ppm (100秒)	25 ppm (100秒)
準確性 *	±0.15 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	±0.1 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	>7000 ppm = 1% FSD
不同分析儀的結果差異（相對于平均值，10秒）	±0.2 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	±0.2 ppb 或讀數的5%，以較高者為準	≤ 1000 ppm = ±10%
線性測量范圍	高達 2,000 ppb	高達 2,000 ppb	高達 30,000 ppm
樣品流量 (ppm)	1.1-1.9
響應時間 (T??, T??)	25秒	25秒